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澤攸科技電子束光刻機助力實現30nm超小間隙納米十字天線

澤攸科技ZEL304G電子束光刻機（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設備，專為半導體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設計。該系統采用先進的場發射電子槍，結合一體化的高速圖形發生系統，確保光刻質量優異。

臺階儀是一類基于接觸式探針掃描技術，實現樣品表面微觀形貌二維和三維特征量化分析的測量設備。

澤攸科技ZEM系列臺式掃描電鏡是一款集成度高、便攜性強且經濟實用的科研設備。它具備快速抽真空、高成像速度、多樣的信號探測器選擇，適用于形貌觀測和成分分析，還能適配多種原位實驗需求。

EBL憑借電子波長短，不受衍射限制等優勢，對比光學光刻具有更高的理論極限分辨率，常被用于掩模版制作和小批量器件研發制作等領域。

n型氧化物薄膜晶體管（TFTs）憑借優異的遷移率、穩定性以及低溫操作、經濟性和成熟技術等優勢，在電子產業化中得到廣泛應用。

氮摻雜石墨烯（N-doped graphene）作為一種無金屬催化劑或金屬納米顆粒載體，在電催化、光催化及環境凈化等領域展現出巨大潛力。

鐵電材料在致動器、換能器和多層陶瓷電容器等領域具有廣泛應用，其性能調控對功能實現至關重要。

隨鈦合金因其高比強度、優異韌性和耐腐蝕性，在航空航天、石油化工及深海裝備等領域應用廣泛。