登上《Nature》 | 澤攸科技原位TEM在非范德華碳化物與碳氮化物超晶格中的應用

澤攸科技作為中國本土的儀器公司，是原位電子顯微鏡表征解決方案的一流供應商，推出的PicoFemto系列的原位透射電子顯微鏡表征解決方案，陸續為國內外用戶的重磅研究成果提供了技術支持。

揭秘掃描電鏡下的“幽靈閃光”：為何絕緣樣品會“閃白光”？

澤攸科技自主研發的ZEM系列臺式掃描電鏡為例，其配備的低真空成像技術，正是應對電荷效應的利器。

澤攸科技ZEM系列掃描電鏡是一款集成度高、便攜性強且經濟實用的科研設備。它具備快速抽真空、高成像速度、多樣的信號探測器選擇，適用于形貌觀測和成分分析，還能適配多種原位實驗需求。

在實際應用中，澤攸科技的設備已被用于二維材料器件的電極制備、微流控芯片的快速成型、以及與電子束光刻（EBL）的混合套刻等前沿研究中，充分展現了其在快速原型制造和多功能集成方面的潛力。

澤攸科技ZEM系列掃描電鏡是一款集成度高、便攜性強且經濟實用的科研設備。它具備快速抽真空、高成像速度、多樣的信號探測器選擇，適用于形貌觀測和成分分析，還能適配多種原位實驗需求。

金屬鹵化物鈣鈦礦因其光電特性，包括高X射線衰減能力、優異的載流子傳輸性能和可調的帶隙，成為下一代X射線探測器領域中一類極具前景的材料。特別是單晶鈣鈦礦，由于其缺陷更少且沒有晶界，相比多晶材料展現出更優越的性能，帶來了更高的靈敏度和更低的電子噪聲。

當前先進制造、新材料與微納加工是全球科技競爭的戰略制高點。以美國為代表的國家已發布國家先進制造業戰略，強調通過發展創新制造技術，保障其在經濟、國家安及供應鏈韌性方面的領先地位。

在微納加工領域，電子束光刻（EBL）技術也利用了電子束的短波長優勢。它使用聚焦后的高能電子束，像一支超高精度的“筆”，直接在涂有感光材料（抗蝕劑）的基底上進行“繪制”，從而定義出極其精細的電路圖案。